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美国研制出“连续渗透合成(SIS)”的技术，可提高太阳能电池使用效率

作者: | 发布日期: 2010 年 11 月 19 日 14:27 | 分类: 产业资讯

美国科学家研制出了一种名为“连续渗透合成(SIS)”的技术，使用该技术，科学家可以用一块由嵌段共聚物大分子组成的薄膜作为模板，制造出具有各种形状和图案的材料，并能更好地控制合成材料的几何形状和化学成分，有望用于制造新一代太阳能电池、催化剂以及光子晶体。

这种新方法是原子层沉积(ALD)技术的扩展，ALD是阿贡国家实验室科学家广泛使用的一种材料合成技术，可以将物质以单原子膜的形式一层一层地镀在基底表面。而SIS不需要像ALD那样层层铺设不同奈米材料组成的薄膜，只需使用嵌段共聚物作为基座即可。采用SIS技术制造出来的材料将有助于提高太阳能电池的效率，降低其成本。

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