致力于亚太地区市场的领先高科技设备、材料及整合服务供应商奇裕公司,将于2015年10月14-16日的PV Taiwan台湾国际太阳光电展览会中(展位号: K0422)展出包含PERC、LID与N型单晶相关技术方案等高效外延片与电池解决方案。
其中,P型高效方面:包含PERC技术,所代理法商AET 能直接检测外延片氧含量,掌握外延片品质及LID衰减问题。在大陆市场上,奇裕也与具量产实绩雷射雕刻厂商友晁TSEMC及印刷机厂商ASM AE紧密合作。而伙伴扩散炉管及PECVD领导设备商TEMPRESS成熟P型高产能量产技术业绩显著。在N型高效上: TEMPRESS领先技术一直受业界肯定,而N型外延片本质上,氧缺陷及热施主的影响及量化检测已深受重视,AET Oxymap氧含量检测的应用可满足先进客户需求。
10月14日上午11时,奇裕公司同最佳伙伴迪斯派奇Despatch举办新产品Power Lock (抗光衰技术)发表会,新产品可协助客户有效抑制LID光衰造成的效率损失, 并能与迪斯派奇烧结炉系列线上设备整合,使 LED光源更带来节能及超长灯源寿命的成本优势。此外,新产品发表会中将有美国产品专家针对LID问题与抗光衰技术作介绍,将有助于业界改善光衰损失及增强成本优势。
除了太阳能电池外,奇裕也深耕产业上下游。晶棒切割方面,合与作伙伴NIKKA SEIKO暂时接着技术稳居龙头,其产品也广泛地运用在半导体及蓝宝石晶棒切片、外延片表面研磨抛光的应用。
奇裕公司总经理简聪明表示“很高兴能利用 PV Taiwan 展会的时间推广奇裕众多原厂相关的新技术。除了往年深受好评及回响的奇裕太阳能研讨会外,今年我们新产品Power Lock发表会可带给业界更具竞争力的解决方案。”
奇裕公司:PV Taiwan展出抗光衰新产品、高效太阳能外延片及电池解决方案 |
作者: | 发布日期: 2015 年 10 月 14 日 9:52 | 分类: 产业资讯 |